Recent investigation shows that CeC & gt ; 2 nanoparticles can be used as CMP slurry to polish IC chip.
最新研究表明,纳米 CeO _2可用于集成电路芯片加工的化学机械抛光(CMP)浆料.
相关词汇
recentadj. 最近的，新近的，近代的，[地]全新世的；
showsv. 给…看( show的第三人称单数 )，表现出，显露出，上演；
thatdet. 那个，那；pron. 那个，那；conj. 多么，如此…以至，用于某些动词、形容词和名词后，引出各种从句；adv. 不那么，那样；
canaux. 能够，可以，有机会；n. 金属罐，一听，金属容器；vt. 将…装罐保存，炒…鱿
bev. 是，有，存在，做，成为，发生；aux. 用来表示某人或某物即主语本身，用来表示某人或某物属于某一群体或有某种性质；
usedadj. 用过的，习惯于，二手的，旧的；v. 使用（ use的过去式和过去分词），常常，经常；
asadv. 同样地，一样地，例如；prep. 作为，以…的身份，如
CMPabbr. compression 压缩，corrugated metal pipe 波纹金属管，compressor 压缩机，compromise 妥协；
toprep. 向，朝着，到，关于，属于；adv. 朝一个方向的，到某种状态，关闭；
polishv. 擦光，磨光，修改，润色；n. 光泽剂，擦亮剂，擦亮，磨光，优美，优雅，精良；
icabbr. increase （价值，价格，库存，金额，生产等）增加，in calf, in charge of, in command 主管，inspected 已检验，inter cibos (Latin=between the meals) （拉丁语）两餐之间；
chipn. 碎片，缺口，（作赌注用的）筹码，（足球）高球；vt. 刻，削成，凿，从…上削下一小片；vi. 剥落，碎裂；